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微弧氧化脉冲电源

微弧氧化电源

行业简介: 微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF)还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是:在普通...

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产品详情

行业简介:
微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是:在普通阳极氧化的基础上,利用弧光放电增强并激活在阳极上发生的反应,从而在以铝、钛、镁金属及其合金为材料的工件表面形成优质的强化陶瓷膜的方法。
    与传统的阳极氧化的相比,微弧氧化技术工艺特点主要有:大幅度地提高了材料的表面硬度;良好的耐磨损性能、良好的耐热性及抗腐蚀性;有良好的绝缘性能;溶液为环保型;工艺稳定可靠,设备工艺简单;操作方便,易于掌握;基体原位生长陶瓷膜,致密均匀,结合牢固;柔韧性强;
产品简介:
微弧氧化生产线设备组成主:
微弧氧化专用电源、槽组部分、循环冷却部分、搅拌部分、导轨行车部分(可选)等。
微弧氧化电源设备特点:
带液晶显示屏/触摸屏,可自动控制和自动设置;具有在线可编程功能;加工时间精确到秒;具有恒流、恒压输出方式且可无扰动自动转换;正、负向脉冲个数可以单独组合设定;正、负向直流输出电流和电压在设计范围内可连续任意设定;正、负向脉冲宽度单独可调;脉冲频率范围可在100-2000Hz之间设置;电源内部的电器元件采用循环水冷却和风冷方式,安全可靠;具有短路、过流、过压、过热、缺相、缺水等保护措施。
微弧氧化电源设备特点:
· 
★带液晶显示屏/触摸屏,自动控制,任意设定加工电流、电压、频率、占空比、时间、波形组合以及有关工艺参数。
★具有在线可编程功能,有工艺参数存储和调用功能,单、双极性输出方式可任意设置。(工艺过程采用DSP自动控制)
★加工时间可在0-999分钟之间选择,精确到秒。
★具有恒流、恒压输出方式;可恒流、恒压在线无扰动自动转换。
★正、负向脉冲个数可以单独组合设定,正、负向脉冲个数设定范围1-100,0-20。
★正向直流输出最高为:电流/电压=500A/750V;负向直流输出最高为: 电流/电压=500A/200V;电流和电压在设计范围内可连续任意设定。
★正、负向脉冲宽度单独可调,占空比在0-100%%之间调节。
★脉冲频率范围可在100-2000Hz之间设置。
★电源内部的电器元件采用循环水冷却和风冷方式,安全可靠。
★具有短路、过流、过压、过热、缺相、缺水等保护措施
· 
详细参数:
型号/品名 济南能华NHWYDM系列微弧氧化电源
电路方式 IGBT/PWM
控制端 触摸屏编程控制+上位机RS485通信
交流输入 相数 一相二线/三相四线
电压 AC 220V/380V±15%
频率 50HZ/60HZ±3HZ
直流输出 软启动 采用软启动(时间1S内)
输出电流 DC  0-5/10/30/50/100/200/250/300A  连续可调
输出电压 DC  0-200V/300V/500V/600V/750V/800V 连续可调
输出波形 方波
输出精度 稳流精度: ≤1% 稳压精度: ≤1%
频率 50HZ-3000HZ连续可设
占空比 正0-70% 负30%(一般正负互补)
显示及调节 正电压 正电流 频率值 正占空比值
负电压 负电流 负占空比值
工作模式 恒流模式 恒压模式
输出状态 恒流时:电压随负载变化而变化 恒压时:电流随负载变化而变化
环境湿度 ≦90%
负载稳定度 ≤1%
工作限度 可满负载长时间工作
保护 保护指示 红灯亮
保护项 有过载,限流,限压,过压,过流,过热,缺相保护.
开关键 电源开关、启动/停止、本地/远程
环境 -10℃-45℃
冷却方式 强迫风冷
 
选型一览
济南能华双极性(正负脉冲)微弧氧化脉冲电源选型表
型号 正向脉冲 反向脉冲 频率 功率
NHWYDM750-5 750V/5A 250V/5A 50-3000HZ 5KW
NHWYDM750-10 750V/10A 250V/10A 50-3000HZ 10KW
NHWYDM750-15 750V/15A 250V/15A 50-3000HZ 15KW
NHWYDM750-20 750V/20A 250V/20A 50-3000HZ 20KW
NHWYDM750-30 750V/30A 250V/30A 50-3000HZ 30KW
NHWYDM750-50 750V/50A 250V/50A 50-3000HZ 50KW
NHWYDM750-100 750V/100A 250V/100A 50-3000HZ 100KW
备注 可按照客户要求定制各种脉冲幅值及脉宽,欢迎咨询!
控制界面:

登录界面

调整脉宽界面

调整占空比及频率界面

多段工艺步骤设置
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